I mars 2026 verifierades och testades det elektroniska -PFA-filtret (perfluoroalkoxi) som utvecklats oberoende av Junlian Chemical framgångsrikt av en ledande inhemsk halvledarwaferfabrik. Detta filter är tillverkat av PFA-material med hög-renhet och perfluorerade membran med hög-precision, och kan effektivt ta bort nanopartiklar och metalljoner i fotomaskeringsmedel och etslösningar. Nyckelindikatorerna har nått den avancerade internationella nivån. Tidigare var denna marknad monopoliserad av amerikanska och japanska företag. Detta genombrott av Junlian Chemical minskade inte bara upphandlingskostnaderna för inhemska halvledarföretag, utan säkerställde också säkerheten i försörjningskedjan.
